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气相二氧化硅生产原理和方法


1、生产原理
高温裂解法生产气相二氧化硅是将四氯化硅高温气化,在氢氧焰
中经高温水解而得气相二氧化硅,其反映式如下:

1000
SiCl4 +2H2 +O2 ─→ SiO2 + 4HCl
2
、生产方法
气相二氧化硅的生产流程图如下:
空气→纳氏泵→汽水分离器→除雾器→冷冻脱水塔→硅胶干燥器

H2→纳氏泵→汽水分离器→除雾器→冷冻脱水器 氢气除尘过滤器

硅胶干燥器
氢气除尘过滤器 氢气阻火器
↓↓
SiCl4→精流塔 →冷凝器 →气化器 ────→合成水解炉


空气 分离器
↓ ↓
成品←脱酸炉←脱酸炉←料斗←凝集器
流程简介:空气经纳氏泵加压后,
]经气水分离器除雾冷冻脱水,硅
胶干燥过滤除尘后分两路,一路到合成水解炉,一路到气化器作四氯
化碳载体。

氢气经纳氏泵加压后,经气水分离器冷冻脱水,硅胶干燥、过滤
除尘后送水解炉。
氢气和空气在合成水解炉上部喷嘴处燃烧,同时通入四氯化硅
,
燃烧形成 1000℃左右的高温,同时生成水蒸气,水蒸气将四氯化硅
水解成二氧化硅和
HCl 气体。高温水解所得的二氧化硅颗粒极细,与
反应后的气体形成气溶胶,不易捕集,故先把它送至聚集器中聚集成
较大颗粒,然后再经旋风分离器收集,送脱酸炉,用含氨的空气吹洗,
使残留的
HCl 量降至 0.025%以下,得成品二氧化硅。





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